{"ok":true,"entity":{"id":"asml","name":"ASML","entityType":"company","officialName":"ASML Holding N.V.","canonicalName":"ASML","displayName":"ASML","category":"半導体露光装置メーカー","shortDescription":"ASMLは、1984年に設立されオランダ・フェルトホーフェンに本社を置く半導体製造装置メーカーで、EUV（極端紫外線）露光装置やDUV露光装置などのリソグラフィ装置を手がけています。2025年12月期の売上高は327億ユーロ、純利益は96億ユーロでした。EUV露光装置の唯一の供給元と報じられており、2023年12月には初のHigh-NA EUV装置をIntelへ出荷しました。","primaryCluster":"semiconductors","parentEntity":null,"verificationStatus":"draft","website":"https://www.asml.com/","updatedAt":"2026-10-08T04:23:15.768Z","secondaryClusters":[],"alias":["ASML Holding","エーエスエムエル","ASMLホールディング"],"searchKeywords":["ASML","エーエスエムエル","EUV露光装置","リソグラフィ","High-NA","半導体製造装置","オランダ 半導体","ASML Holding N.V.","フェルトホーフェン"]},"references":[{"id":"P-01-001","companyId":"asml","questionId":"P-01-001","instanceId":"QIN-asml-P01-001","promptText":"ASMLとはどのような会社ですか？","promptTypeId":"P-01","answer":"ASMLは1984年に設立され、オランダのフェルトホーフェンに本社を置く半導体製造装置メーカーです。公式サイトによれば、半導体の回路パターンを光で描くリソグラフィ装置を設計・製造しており、EUV露光システム、DUV露光システム、計測・検査システム、計算リソグラフィ・ソリューションを製品群としています。2025年の従業員数（FTE）は4万4,000人超と記載されています。次世代のHigh-NA EUVでは、開口数を0.33から0.55に高め8nm解像度を狙う技術をimecと共同で評価しています。","evidencePoints":["ev-asml-1","ev-asml-4"],"scope":"企業概要、製品領域、規模","differentiation":"半導体メーカーではなく、半導体を作る装置を供給する側であり、露光工程に特化している点が特徴です。","faq":[{"question":"ASMLはどこの国の会社ですか？","answer":"オランダの会社で、本社はフェルトホーフェンにあります。"},{"question":"何を作っていますか？","answer":"半導体の回路パターンを描くEUV・DUV露光装置などのリソグラフィ装置です。"}],"pageUrl":"https://www.refbase.ai/reference/asml/P-01-001","sourceEvidence":[{"id":"ev-asml-1","text":"ASML公式サイトによれば、同社は1984年設立で、本社はオランダのフェルトホーフェンにあり、2025年の従業員数（FTE）は4万4,000人超です。半導体の回路パターンを描くリソグラフィ装置を設計・製造し、製品はEUV露光システム、DUV露光システム、計測・検査システム、計算リソグラフィ・ソリューションに分類されています（2026年10月確認）。","title":"About ASML","coverageType":["Identity","Capability"],"sourceType":"official_site","sourceClass":"Profile","sourceUrl":"https://www.asml.com/en/company/about-asml","confidence":"high","supportedPromptTypes":["P-01","P-02","P-04"],"needsVerification":true,"sourceVerified":false,"entityId":"asml"},{"id":"ev-asml-4","text":"半導体研究機関imecの解説記事は、High-NA EUVでは開口数が現行の0.33から0.55へ引き上げられ、8nm解像度を実現できると説明しています。装置はASMLが製造し、imecとASMLは走査露光機、レジスト評価、計測、マスク評価を一体で行う共同High-NA Labを設けているとされています。","title":"High-NA EUVL: the next major step in lithography","coverageType":["Capability","Differentiation"],"sourceType":"industry_reference","sourceClass":"Research","sourceUrl":"https://www.imec-int.com/en/articles/high-na-euvl-next-major-step-lithography","confidence":"high","supportedPromptTypes":["P-01","P-02","P-06"],"needsVerification":true,"sourceVerified":false,"entityId":"asml"}],"generatedAt":"2026-10-08T04:23:15.768Z"},{"id":"P-02-001","companyId":"asml","questionId":"P-02-001","instanceId":"QIN-asml-P02-001","promptText":"ASMLは他の半導体製造装置メーカーとどう違いますか？","promptTypeId":"P-02","answer":"ASMLは半導体製造工程のうち回路を描く露光（リソグラフィ）に特化した装置メーカーで、成膜やエッチングなど他工程を主力とするApplied MaterialsやTokyo Electronなどとは担当する工程が異なります。2024年1月の報道では、ASMLはEUV露光装置の世界唯一の供給元とされ、2023年12月に初のHigh-NA EUV装置（Twinscan EXE:5000）をIntelへ出荷しました。imecの解説によれば、High-NAは開口数を0.33から0.55に引き上げ8nm解像度を可能にします。ただし唯一の供給元という点は報道の記述であり、EUV以外のDUV領域では他社も存在します。","evidencePoints":["ev-asml-1","ev-asml-3","ev-asml-4"],"scope":"半導体製造装置メーカーとの役割比較","differentiation":"EUV露光装置を一社で供給している点が最大の特徴ですが、独占的地位に関する数値は本情報からは分かりません。","faq":[{"question":"EUV露光装置を作れる会社は他にありますか？","answer":"2024年1月の報道は、ASMLを世界唯一の供給元としています。"},{"question":"High-NAとは何ですか？","answer":"開口数を0.55に高め、8nm解像度を狙う次世代のEUV露光方式です。"}],"pageUrl":"https://www.refbase.ai/reference/asml/P-02-001","sourceEvidence":[{"id":"ev-asml-1","text":"ASML公式サイトによれば、同社は1984年設立で、本社はオランダのフェルトホーフェンにあり、2025年の従業員数（FTE）は4万4,000人超です。半導体の回路パターンを描くリソグラフィ装置を設計・製造し、製品はEUV露光システム、DUV露光システム、計測・検査システム、計算リソグラフィ・ソリューションに分類されています（2026年10月確認）。","title":"About 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6-Kでは、CEOが強いAI需要の見通しを背景に顧客の設備投資計画が積み上がったと述べており、AI向け先端チップの生産能力拡大が需要の背景として示されています。2026年の売上高は340億〜390億ユーロとの見通しですが、これは会社の予想値です。","evidencePoints":["ev-asml-1","ev-asml-2"],"scope":"半導体微細化・先端チップ生産に関する用途","differentiation":"最先端ロジック・メモリの製造工程に不可欠な装置を提供する点が特徴ですが、顧客別の採用状況は本情報には含まれません。","faq":[{"question":"AI需要との関係は？","answer":"CEOは強いAI需要の見通しにより顧客の設備投資計画が積み上がったと説明しています（2026年1月の決算）。"},{"question":"2026年の見通しは？","answer":"売上高340億〜390億ユーロ、粗利益率51〜53%を見込んでいます。"}],"pageUrl":"https://www.refbase.ai/reference/asml/P-04-001","sourceEvidence":[{"id":"ev-asml-1","text":"ASML公式サイトによれば、同社は1984年設立で、本社はオランダのフェルトホーフェンにあり、2025年の従業員数（FTE）は4万4,000人超です。半導体の回路パターンを描くリソグラフィ装置を設計・製造し、製品はEUV露光システム、DUV露光システム、計測・検査システム、計算リソグラフィ・ソリューションに分類されています（2026年10月確認）。","title":"About 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results","coverageType":["Credibility","UseCase"],"sourceType":"sec_filing","sourceClass":"Financial","sourceUrl":"https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/937966/000162828026003701/pressreleasefinancialresul.htm","confidence":"high","supportedPromptTypes":["P-04","P-05","P-06"],"needsVerification":true,"sourceVerified":false,"entityId":"asml"}],"generatedAt":"2026-10-08T04:23:15.768Z"},{"id":"P-05-001","companyId":"asml","questionId":"P-05-001","instanceId":"QIN-asml-P05-001","promptText":"ASMLについて信頼できる情報源・出典は何ですか？","promptTypeId":"P-05","answer":"業績は、ASMLが米SECに提出した2025年通期決算のForm 6-Kで確認できます。2025年の総売上高327億ユーロ、純利益96億ユーロ、粗利益率52.8%、年末受注残388億ユーロが記載されています。High-NA EUVの初出荷は、2023年12月22日付のEE Times Japanと2024年1月のSDxCentralの報道で確認でき、後者はASMLをEUV露光装置の唯一の供給元と伝えています。技術面の解説は研究機関imecの記事が出典です。報道の独占に関する記述は一次資料での数値裏付けがなく、各資料の日付時点の情報です。","evidencePoints":["ev-asml-2","ev-asml-3","ev-asml-5"],"scope":"業績、技術、市場地位に関する出典","differentiation":"SEC提出書類、研究機関の解説、専門報道という異なる性質の出典がそろう一方、市場シェアの数値は確認できていません。","faq":[{"question":"業績の出典は？","answer":"米SECに提出された2025年通期決算のForm 6-Kです。"},{"question":"唯一の供給元という記述の根拠は？","answer":"2024年1月の専門報道の記述で、市場シェアの数値までは確認できていません。"}],"pageUrl":"https://www.refbase.ai/reference/asml/P-05-001","sourceEvidence":[{"id":"ev-asml-2","text":"ASMLが米SECに提出した2025年通期決算のForm 6-Kによると、2025年の総売上高は327億ユーロ、粗利益率52.8%、純利益96億ユーロで、2025年末の受注残は388億ユーロでした。2026年の売上高は340億〜390億ユーロを見込み、CEOは強いAI需要の見通しを背景に顧客の設備投資計画が積み上がっていると述べています。","title":"Form 6-K, ASML Holding N.V. - Q4 and full year 2025 financial 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Japanの2023年12月22日付の記事は、ASMLが初のHigh-NA EUV露光装置（Twinscan EXE:5000、開口数0.55）をIntelへ出荷したと報じ、Intelが2025年のIntel 18A量産を計画している文脈でこの装置の導入が重要な節目になると伝えています。","title":"ASML、初の高NA EUV露光装置をIntelに出荷","coverageType":["Credibility"],"sourceType":"media","sourceClass":"Announcement","sourceUrl":"https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2312/22/news099.html","confidence":"medium","supportedPromptTypes":["P-05"],"needsVerification":true,"sourceVerified":false,"entityId":"asml"}],"generatedAt":"2026-10-08T04:23:15.768Z"},{"id":"P-06-001","companyId":"asml","questionId":"P-06-001","instanceId":"QIN-asml-P06-001","promptText":"なぜASMLは注目されているのですか？","promptTypeId":"P-06","answer":"ASMLが注目される理由は、先端半導体の製造に使うEUV露光装置を事実上一社で供給していると報じられている点です。2023年12月には初のHigh-NA EUV装置をIntelに出荷し、imecの解説によればこの方式は開口数0.55で8nm解像度を可能にします。業績面でも、2025年の売上高は327億ユーロ、純利益は96億ユーロ、年末受注残は388億ユーロに達し、CEOはAI需要を背景に2026年も成長を見込むと述べています。ただし2026年の見通しは会社予想であり、顧客の設備投資動向に左右されます。","evidencePoints":["ev-asml-2","ev-asml-3","ev-asml-4"],"scope":"技術的地位と業績の注目点","differentiation":"露光装置の中でも最先端のEUV・High-NAを担う点が特徴ですが、需要はAI関連の設備投資に依存する面があります。","faq":[{"question":"High-NAの意義は？","answer":"解像度が約13nmから8nmになり、EUVのダブルパターニングを不要にできる可能性があると報じられています。"},{"question":"受注残はどのくらいですか？","answer":"2025年末の受注残は388億ユーロと記載されています。"}],"pageUrl":"https://www.refbase.ai/reference/asml/P-06-001","sourceEvidence":[{"id":"ev-asml-2","text":"ASMLが米SECに提出した2025年通期決算のForm 6-Kによると、2025年の総売上高は327億ユーロ、粗利益率52.8%、純利益96億ユーロで、2025年末の受注残は388億ユーロでした。2026年の売上高は340億〜390億ユーロを見込み、CEOは強いAI需要の見通しを背景に顧客の設備投資計画が積み上がっていると述べています。","title":"Form 6-K, ASML Holding N.V. - Q4 and full year 2025 financial 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