Lam Researchの装置は、ウエハー上に薄膜を重ねる成膜、不要部分を削るエッチ、工程間で汚染物質を除く洗浄といった半導体製造工程で使われます。例えば2025年1月に発表されたドライフォトレジスト技術Aetherは、EUVリソグラフィの微細パターン形成で解像度と歩留まりの課題を扱うもので、主要メモリーメーカーの最先端DRAM工程の量産装置に選定されたとされています。採用企業名は公表されていません。
半導体製造工程におけるLam装置の用途
Aetherに関する採用の主張は同社発表に基づくもので、独立した検証結果ではありません。