P-04課題解決

imecはどのような課題の解決に使われますか?

チップメーカーや装置・材料企業が、量産前の次世代プロセス技術を共同で検証したい場面でimecを活用します。2024年開設のASML共同ラボでは、High NA EUVのプロトタイプスキャナやメトロロジ装置を利用でき、先端ロジック・メモリのメーカーが量産導入前にプロセス開発とリスク低減を進められるとされています。またNanoIC試験ラインでは、2nm超のSystems-on-Chip開発を支援し、スタートアップや中小企業向けに設計キットや製造支援を提供する計画です。具体的な利用条件は公式での確認が必要です。

実績・根拠

向いている相談

量産前の先端プロセス検証、試験ライン利用

他の選択肢との違い

研究機関であり、量産ファウンドリのような製造受託サービスではない。

よくある質問

High-NA EUVとは何ですか?
開口数を0.33NAから0.55NAへ高めたEUVリソグラフィで、単一露光でより微細なパターンを描くことを狙う技術と、imecは説明しています。

情報ソース