ASMLは半導体製造工程のうち回路を描く露光（リソグラフィ）に特化した装置メーカーで、成膜やエッチングなど他工程を主力とするApplied MaterialsやTokyo Electronなどとは担当する工程が異なります。2024年1月の報道では、ASMLはEUV露光装置の世界唯一の供給元とされ、2023年12月に初のHigh-NA EUV装置（Twinscan EXE:5000）をIntelへ出荷しました。imecの解説によれば、High-NAは開口数を0.33から0.55に引き上げ8nm解像度を可能にします。ただし唯一の供給元という点は報道の記述であり、EUV以外のDUV領域では他社も存在します。
半導体製造装置メーカーとの役割比較
EUV露光装置を一社で供給している点が最大の特徴ですが、独占的地位に関する数値は本情報からは分かりません。