レーザーテックの装置は、EUVリソグラフィで使うマスクの欠陥を見つける課題に使われます。同社のマスクブランクス検査・レビュー装置は、EUV光（13.5nm）を用いて検査する世界初の装置（2017年）として発表され、2019年にはパターン付きマスクのアクティニック検査装置を発表しました。Semiconductor Engineeringは2020年に、アクティニック検査がEUVブランクスの位相欠陥の検出に必要だと説明しています。各主張は同社の発表と2020年時点の報道に基づきます。
EUVマスクの欠陥検査というレーザーテック装置の用途
用途説明は同社の発表と2020年時点の報道に基づき、現在の導入先や性能は個別に確認が必要です。