EUV（極端紫外線）リソグラフィは、波長13.5nmの光を使って先端チップの回路パターンをウエハーに描く露光技術です。ASMLの製品ページでは、同社がEUV露光装置の唯一の製造企業とされており、NA 0.33のNXE系と、NA 0.55で解像度8nmとされるEXE系（High-NA）が現行製品として載っています。2024年1月にはEXE:5000の最初のモジュールがIntelへ出荷されました。
EUV露光の基本的な定義と、現行の装置の種類
従来のDUV（波長193nm）より大幅に短い波長を使う点が特徴で、装置の供給元はASMLに限られるとASMLは説明している。