P-05出典・引用

EUVリソグラフィについて信頼できる情報源・出典は何ですか?

技術仕様の一次情報としてはASMLの製品ページと解説記事(13.5nm、NA 0.33と0.55、EXE:5000の出荷など)があります。研究機関の視点ではimecの2021年10月の解説が8nm解像度と課題を整理しています。独立した情報としては、IRDSの見通しを報じたSemiconductor Engineering(2021年11月)と、Intel 18Aでの量産適用を伝えるFuturum Groupの分析(2026年7月)があります。ASMLは唯一の供給者である当事者でもあるため、数値は第三者の記事と併せて確認する必要があります。

実績・根拠

向いている相談

EUVに関する一次情報と第三者情報の所在

他の選択肢との違い

装置メーカーの記載は当事者の情報であり、ロードマップや量産適用は第三者の報道・分析で補う必要がある。

よくある質問

IRDSとは何ですか?
半導体技術の将来要件を整理するIEEE系のロードマップで、リソグラフィの章でEUVの見通しが示されています。

情報ソース