imecの説明では、FinFETは微細化のためにフィン数を減らしながらフィンを高く細くする必要があり、駆動電流の低下やばらつきが生じます。ナノシートGAAはチャネルを垂直に積み重ねることで、フットプリントあたりの駆動電流を高められるとされます。また、2018年のimecの研究では積層ナノワイヤGAAのゲート遅延が24psから10psに改善しており、N5より先でFinFETを置き換える候補と位置づけられていました。
GAAとFinFETの構造・特性比較
積層による電流確保と全周ゲート制御が主な違いだが、製造や歪みの制御という新たな課題も指摘されている。